La lithographie est un élément essentiel des salles blanches, elle permet de définir les motifs grâce à des résines photo- ou électro- sensibles. Nous disposons de 2 équipements d’insolation : le premier, optique, a une résolution maximale d’environ 1µm tandis que le second, électronique, permet théoriquement d’atteindre 20nm de résolution.
1 hotte pour l’enduction des wafers, avec 2 tournettes Delta 10 Suss Microtec, de 3 plaques chauffantes intégrées dans le plan de travail et une étuve de déshydratation (Température max étuve 200°C)
Les résines utilisées sont :
- Pour les résines Positives : la série S1800, AZ4533, AZ9260 et PMMA 950k A6.
- Pour les résines Négatives :Az nLof 2070, la série des SU8 (0.5 à 100µm) et les MaN 2400.
- Pour les Résines Inversibles, utilisées pour les lift-off : AZ5214E, TI35ES.
Aligneur de masque MJB4 simple face Süss Microtec - Echantillon de 5×5 mm à 3 pouces
- Masque de 2 à 5 pouces
- Résolution spatiale :
Mask holderPhoto L. Doyennette
- 3 objectifs microscope : ×5, ×10, ×18 avec système pour une distance de travail minimale de 12mm
- Intensité de la lampe à Mercure : environ 12mW/cm2 à 365nm
(Possibilité d’utiliser un filtre passe-bande autour de 365nm)
Mask Aligner MJB4©CNRS Phototèque - C. Frésillon
Raith Pioneer Two - lithographie électroniqueRaith Pioneer Two© RaithLe système Raith permet de contrôler de faisceau électronique du microscope afin de gérer l’exposition de résines électrosensibles tel les PMMA, la HSQ ou la MaN.
Quelques données techniques :
Une hotte à flux laminaire pour le développement des résines photosensibles
Les développeurs à disposition sont :
