La partie chimie de la salle blanche est constituée de 4 sorbonnes et 1 hotte à flux laminaire, équipées de plaques chauffantes, de bac à ultrasons, d’azote gazeux pur pour le séchage des échantillons et d’eau désionisée à 18MΏ/cm².
Acid fume hood
© CNRS Photothèque / Cyril Frésillon
2 sorbonnes solvants : une pour le nettoyage des wafers et l’autre pour le lift-off des dépôts.
Les principaux solvants utilisés sont :
- Acétone
- Isopropanol
- Trichloroéthylène
- Dichlorométhane
2 sorbonnes acides : pour les gravures humides des métaux et des semi-conducteurs
Les principaux acides disponibles sont :
© CNRS Photothèque / Cyril Frésillon
| l’acide acétique | |
| l’acide bromhydrique | |
| l’acide chlorhydrique | |
| l’acide citrique | |
| l’acide fluorhydrique | |
| l’acide nitrique | |
| l’acide orthophosphorique | |
| l’acide sulfurique | |
| Dichromate de potassium | |
| Fluorure d’ammonium | |
| Mélange BOE 7-1 | |
| Solution de gravure d’Aluminium | |
| Solution de gravure de Chrome | |
| Solution de gravure de l’Or |
1 hotte à flux laminaire : pour la gravure ou le nettoyage de semiconducteurs
Les principales bases disponibles sont :
| Ammoniaque | |
| hydroxyde de sodium | |
| Hydroxyde de potassium |
Voici des exemples de gravure par acide de matériaux III-V réalisée en salle :
