Equipements

Lithographie optique, lithographie électronique
  • Hotte pour l’enduction des wafers, avec 2 tournettes Delta 10 Suss Microtec, 3 plaques chauffantes et une étuve (température max 200°C)
  • Hotte à flux laminaire pour le développement
  • Aligneur de masque MJB4 simple face Süss Microtec (wafers jusqu’à 4 pouces)
  • Raith Pioneer Two – lithographie électronique
Dépôt de couches minces
  • Évaporateur à canon à électrons – Plassys MEB 550S : dépôts de Ag, Al, Au, Co, Ge, Pd, Cr, Pt, Ni et Ti
  • Bâti PECVD – Corial D250 : dépôts SiO2 et Si3N4
  • Or électrolytique
Gravure Plasma
  • Système ICP-RIE – Sentech SI500 : gravure des matériaux III-V (GaAs, AlGaAs, InGaAs ou InP)
  • Système RIE – Corial 200R : gravure d’isolants
  • Plasma O2 et Ar – Diener Electronics Pico
Chimie
  • 2 sorbonnes “solvants”
  • 2 sorbonnes “acides”

Les sorbonnes sont équipées de plaques chauffantes, de bac à ultrasons, d’azote gazeux pur pour le séchage des échantillons et d’eau désionisée à 18MΏ/cm².

Caractérisation
  • MEB-FEG – Raith Pioneer Two,
  • Profilomètre mécanique Dektak XT
  • Réflectomètre
  • 2 microscopes optiques
Autres équipements
  • Micro-soudeuse – Kulicke&Soffa 4523 : Or et Aluminium
  • Four de recuit rapide – Solaris 75
  • Station de transfert pour matériaux 2D – HQ Graphene

À lire aussi

Exposition – Matériaux et phénomènes illustrés

Exposition – Matériaux et phénomènes illustrés

,

Exposition ouverte au grand public, en accès libre. Au laboratoire Matériaux et Phénomènes Quantiques, sont conçues et fabriquées des puces électroniques et photoniques, utilisées aussi bien en recherche fondamentale que pour des applications industrielles, comme les...