TUPHO, pour la production à grande échelle de circuits photoniques intégrés

Bien que les PICs aient le potentiel de révolutionner des domaines tels que la détection, les technologies quantiques, le calcul et les télécommunications — en offrant des performances accrues, une consommation d’énergie réduite et des coûts moindres —, leur industrialisation reste limitée en raison de très faibles rendements de production causés par des imperfections de fabrication. Même si les erreurs de dimension en fabrication sont aujourd’hui de seulement quelques nanomètres, elles doivent encore être minimisées jusqu’à l’échelle du picomètre pour atteindre un rendement de dispositifs fonctionnels supérieur à 90 %. Le projet TUPHO s’attaque à ce goulot d’étranglement critique grâce à une technique brevetée de post-fabrication permettant de corriger de manière permanente les erreurs de fabrication à l’échelle du wafer. Cette méthode permet d’ajuster les dispositifs photoniques avec une précision inégalée — à l’échelle du picomètre et en deçà — ouvrant ainsi la voie à une production à grande échelle avec des rendements élevés pour l’industrie des PICs.

Ouvert à tous les projets de start-up impliquant le CNRS, le programme RISE permet aux porteurs de profiter de l’expertise et du réseau de CNRS Innovation, et de faire émerger leur projet en bénéficiant d’un accompagnement d’un an dans toutes leurs étapes de développement, dispensé par une équipe d’experts dédiés et de mentors.

Contacts : Hamidreza Neshasteh, Ivan Favero